미국 상무부가 세계 유일의 최첨단 극자외선(EUV) 리소그래피 장비 제조업체인 네덜란드 ASML의 핵심 장비가 중국으로 흘러 들어갔을 가능성에 대한 우려를 표명했습니다. 하워드 러트닉 미국 상무장관은 최근 ASML 고위 경영진과의 회의에서 이 문제를 제기하며, 이는 트럼프 행정부 이후 시행된 대중국 수출 통제 위반에 해당할 수 있다고 경고했습니다. 그러나 ASML은 중국에 EUV 장비가 존재하지 않으며, 관련 구성 요소나 운송 장비가 중국으로 선적된 적도 없다고 강력히 부인하고 있습니다.
ASML의 EUV 리소그래피 장비는 엔비디아(Nvidia)와 애플(Apple) 칩을 생산하는 TSMC 등 최첨단 파운드리(반도체 위탁생산) 기업들이 가장 진보된 반도체 패턴을 인쇄하는 데 필수적인 도구입니다. 이 기술은 ASML이 20여 년간 수십억 달러를 투자해 개발했으며, 현재까지 대체 공급업체가 없는 독점적인 위치를 차지하고 있습니다. ASML의 크리스토프 푸케(Christophe Fouquet) CEO는 모든 출하 장비를 추적하고 있으며, EUV 기술 접근 권한을 엄격히 제한하는 내부 방화벽 시스템을 운영 중이라고 밝혔습니다. 또한, ASML이 자사의 수출 허가를 위태롭게 하면서까지 중국 고객에게 불법적으로 EUV 장비를 제공할 상업적 유인이 없다는 점을 강조했습니다.
이번 논란은 단순히 한 기업의 수출 통제 위반 문제를 넘어, 글로벌 AI 반도체 공급망과 미중 기술 패권 경쟁의 핵심을 건드리고 있습니다. 만약 EUV 장비가 중국에 유출되었다면, 이는 미국이 수년간 구축해 온 대중국 첨단 기술 봉쇄 전략에 심각한 균열을 의미하며, 중국의 AI 및 군사 기술 발전에 결정적인 영향을 미칠 수 있습니다. 미국 정부가 ASML의 EUV 독점 기술에 도전하는 스타트업에 투자하고 있다는 점, 그리고 ASML의 구형 심자외선(DUV) 장비의 대중국 수출까지 금지하려는 법안이 의회에서 논의 중이라는 점은 이번 논란의 배경에 복잡한 정치경제적 역학 관계가 얽혀 있음을 시사합니다.